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Technical articles2025
11-20光纖鍍膜小型離子濺射儀的主要組成部分及其應(yīng)用
光纖鍍膜小型離子濺射儀是一種專(zhuān)用于光纖表面涂層和薄膜沉積的設(shè)備，廣泛應(yīng)用于光電子、通訊、光學(xué)、半導(dǎo)體等領(lǐng)域。離子濺射技術(shù)利用高能離子轟擊靶材，通過(guò)濺射效應(yīng)使靶材...2025
10-23薄膜制備小型磁控濺射儀的具體工作過(guò)程分析
薄膜制備小型磁控濺射儀是一種利用磁控濺射技術(shù)進(jìn)行薄膜制備的實(shí)驗(yàn)室設(shè)備。磁控濺射技術(shù)是一種常用的物理氣相沉積（PVD）方法，通過(guò)高能粒子撞擊靶材，將靶材原子或分子...2025
9-17薄膜制備小型磁控濺射儀的工作原理及設(shè)計(jì)要點(diǎn)
磁控濺射是利用磁場(chǎng)增強(qiáng)的濺射效應(yīng)來(lái)制備薄膜的一種物理氣相沉積（PVD）方法。其基本原理是通過(guò)電場(chǎng)將離子加速，撞擊靶材表面，導(dǎo)致靶材原子或分子濺射出來(lái)，并沉積到基...2025
8-20低溫濺射小型磁控濺射儀的操作注意事項(xiàng)
低溫濺射小型磁控濺射儀是一種物理氣相沉積（PVD）技術(shù)，利用高能粒子轟擊靶材（一般是金屬或合金）表面，使靶材原子脫離并在基底表面沉積成薄膜。磁控濺射是在傳統(tǒng)濺射...2025
7-16桌面型小型離子濺射儀：高效薄膜沉積的新選擇
離子濺射是一種基于離子與固體表面碰撞的物理過(guò)程。當(dāng)高能離子（如氬離子）轟擊靶材表面時(shí)，靶材中的原子或分子受到?jīng)_擊力從表面彈出，產(chǎn)生濺射效應(yīng)。濺射出的原子或分子會(huì)...2025
6-17冷濺射小型磁控濺射儀具有良好的濺射過(guò)程控制能力
冷濺射小型磁控濺射儀是一種用于薄膜材料沉積的設(shè)備，廣泛應(yīng)用于材料科學(xué)、半導(dǎo)體工業(yè)、光電器件制造等領(lǐng)域。具有高精度、高沉積速率、低溫沉積等優(yōu)點(diǎn)，并能夠在不加熱基材...2025
5-21桌面型小型離子濺射儀的設(shè)計(jì)特點(diǎn)詳細(xì)介紹
桌面型小型離子濺射儀是用于薄膜沉積、表面處理以及材料改性的一種先進(jìn)工具，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造、光學(xué)涂層、表面分析等領(lǐng)域。離子濺射技術(shù)通過(guò)利用離子束轟擊靶材，使靶...2024
12-16貴金屬靶材蒸發(fā)料加工蒸發(fā)薄膜的沉積與控制
貴金屬靶材蒸發(fā)料加工技術(shù)作為一種重要的薄膜制備技術(shù)，在多個(gè)行業(yè)中得到了廣泛應(yīng)用。隨著技術(shù)的不斷發(fā)展，蒸發(fā)加工的精度和效率不斷提高，新的蒸發(fā)方法和設(shè)備層出不窮，貴...推薦產(chǎn)品
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